上海微電子取得成功研制開發(fā)的是22納米級其他光刻機,它是在依靠外界紫外光的功效下能得到取得成功表明出屏幕分辨率的,盡管這和ASML的5納米級其他光刻機對比或是具有著較大的一段距離,可是有這種的成績已是十分可喜的了。
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